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笔趣阁 > 重生之神级操盘手 > 第一百八十二章 浸入式技术

第一百八十二章 浸入式技术

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这个时期,手机行业的竞争正在迅速形成。  市场日益激烈。  翻盖手机被制造出来了,滑盖手机也开始出现,这让那些手机厂商,根本无暇分心研究触摸屏这个领域。  再加上,现在的客户,他们更在意手机是否结实耐用、电池续航时间长不长,等等“质量”问题,所以谁也不会浪费时间,金钱,去考虑制造市场看不上的手机。  陈伟东提出来的这个设想,索尼公司并不好看,但看在他的“巨资”份上,还是很乐意陪他疯一把的。  因为这不仅可以累积经验,也可以加快技术的革新。  无论怎么看,都是双赢。  离开索尼公司之后,陈伟东马上就打电话联系了陈杰,跟他说明了前期需要的准备工作。  包括和索尼公司的一些合作细节。  想要跨越最少十年的技术壁垒,可不是一件容易的事情。  光是一个手机的操作系统,就不是一般的难。  虽然无穷大计算机公司,有上千名优秀的程序员,但他们擅长的是应用软件开发,对于如何设计一款手机操作系统,完全就是抓瞎。  最后,计算机部门经过研究讨论,决定还是从模仿开始。  否则从无到有,光是摸索,就要花费大量的时间。  山寨,永远是追上对方技术脚步最快的方法。  他们找来和塞班公司联名开发的新款手机,准备先剖析塞班系统的内核,然后尝试设计出一款简单的操作系统,最后再加以改进....  这个时候,由于无穷大公司和精密研究所的关系缓和,不少研究人员又陆续回到了实验室。  他们乐得嘴都合不拢了,都在交口称赞,还是陈杰大度。  然后,就一头钻进了实验室,继续他们之前没有完成的研究。  按理来说,他们这些“外来人员”,使用公司的仪器,是要收费的,但陈杰通过赵工了解到,精密研究所简直穷的叮当响,一年的经费都才七八百万。  这也就让他实在没好意思开口要钱。  克鲁格教授,也在最近一个月,和陈杰等人进行了多次讨论,终于确定了研究方向。  他现在的首要目标,就是设计出一款芯片图纸,这个难度非常大,需要很多人配合。  小小的芯片,集合了全人类的智慧,其实就连美利坚,也没办法完全掌握所有的环节。  一枚手机芯片的面积基本上只有10平方毫米左右,也就是和大拇指甲盖差不多大。  而且这里面可不是只有CPU一个结构,其他诸如GPU,NPU,ISP,DAC解码芯片,基带等等结构全部都要位列其中。  设计师要把几十亿个晶体管,排列在这个指甲大小般的区域内,并让它们准确无误的进行工作。  精准度就好比用笔,在上面雕刻出一整座城市。  一款芯片从图纸阶段到实物阶段,大概需要经过2个步骤,分别是芯片设计和芯片制造。  打造一款芯片就像是建造一栋大楼,而芯片设计就像给大楼设计建筑图纸。  美利坚在芯片设计领域,占据了绝对优势。  他们的半导体产业起步最早,世界上第一块芯片就是他们制造出来的。  芯片是半导体产业的产品,半导体是用来做芯片的材料。  这个行业,通俗一点,就叫芯片行业,学术一点就叫半导体行业,实际上相当于土豆和马铃薯的区别。  仅仅设计出芯片,还是远远不够的,他还需要用光刻机在芯片上进行雕刻。  光刻机就相当于雕刻用的“笔”。  而世界上,只有3个国家有能力制造出光刻机,其中能制造出高端光刻机的,只有岛国和荷兰。  岛国的国土面积虽然不大,却掌握着强大的科技实力和工业基础。  在八十年代,岛国的光刻机是全世界最先进的。  那个时候,尼康、佳能公司也能生产光刻机,曾一度占领行业50%以上的份额,包括IBM、英特尔、德州仪器在内的大客户,无一不争相抢购他们的光刻机。  然而,由于这两家公司的一个失误,导致岛国将光刻机巨头的皇冠,拱手让给了荷兰的ASML。  ASML从2000年左右开始研发EUV光刻机,并决定大规模量产。  彼时,岛国光刻机企业却认为系统太过复杂,并未选择跟进。  那个时候的ASML还是一家小公司,面对岛国制霸光刻机市场,他们决定以小博大,弯道超车,试一试台积电,林本坚提出的“浸入式光刻机技术”。  这个技术,你听起来觉得很高端,实际上是一种非常简单的技术,简单到陈伟东第一次听说的时候,还以为自己听错了。  所以他对这件事情印象深刻。  浸入式光刻技术,就是在光刻镜头,与待刻的硅晶片之间,充满液体,就可以大幅度提高光刻机的加工精度!  陈伟东将这项“技术”,告诉了克鲁格教授。  最近这些天,他在实验中将那台从树屋研究所带回来的光刻机,精度一百九十纳米的光刻机,成功刻制出了一百零五纳米的密集图形!  这一结果让他欣喜若狂!  几近失态!  通常的光刻机,在光刻镜头与硅晶圆之间,没有任何遮挡。  当然,从另一个角度来说,它们之间,存在的是空气。  浸入式的思路,就是用液体来替换掉中间的空气。  由于液体具有折光率,所以当紫外线通过液体介质之后,它的光源波长就会缩短,从而起到精微刻制的作用。  本来他们还觉得有些老旧的光刻机,突然摇身一变,成为了一百零五纳米的光刻机,远远的超过了现有的光刻技术!  其实这个浸入式光刻技术,并不算ASML首创。  早在80年代初,就有科学家采用浸入技术,成功提高了光刻效果。  然而,这项技术,它的液体很容易污染光学镜片。  所以这个这个时期的主流光刻技术研究,只是将其作为一个过渡手段,并没有起到足够的重视。  一旦下一代光刻技术成熟,便会毫不犹豫的抛弃浸入式光刻。

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